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中国・郑州・高新技术产业开发区北斗产业孵化园
化学气相沉积CVD系统
化学气相沉积(CVD)系统用于均匀沉积薄膜材料,包括半导体、碳化硅(SiC)、金属基板上的氧化物、碳化物、氮化物等。
化学气相沉积CVD系统
真空管式化学气相沉积CVD-60-12
主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。
真空管式化学气相沉积CVD-60-12
化学气相沉积管式炉CVD-1400℃
1400℃-CVD化学气相沉积管式炉是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法。
化学气相沉积管式炉CVD-1400℃
梯度化学气相沉积管式炉CVD-1200℃
1200℃-CVD化学气相沉积梯度管式炉是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法。
梯度化学气相沉积管式炉CVD-1200℃
智能型滑轨式CVD系统1200℃
该设备主要分为五大部分:加热系统,真空系统,气体控制供给系统,自动控制移动系统,控制软件系统组成。
智能型滑轨式CVD系统1200℃
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