真空管式化学气相沉积CVD-60-12

一、 产品简介：

   CVD化学气相沉积管式炉，主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。

二、 产品特点：

1、  炉膛材料选用高纯氧化铝陶瓷纤维材料，新型拼装结构，高温不变形、坚固耐用；

2、 炉管采用石英管或者刚玉管，不锈钢法兰设计简单、合理、易拆卸，方便进出烧结样品；

3、 升温速度快，从室温升到1000摄氏度，一般需要15-30分钟；

4、 采用进口温控仪表，控温精度高，冲温小，具有温度补偿和温度校正功能，精度为±1℃；

5、 控温仪表具有程序功能，可设定升温曲线，可编程序30个程序段；

6、 一体式结构，美观、大方；

7、 电子元器件均采用产品，带有漏电保护功能；

8、 本机对工作过程中的超温会发出报警信号，并自动完成保护动作；

9、  当仪表程序设定完成后，只要按下运行按钮，接下来的工作会自动完成；

10、 气路系统可选择一路或三路气体质量流量计，带混气系统也可单进单出，通入气体数字精确控制，流量开关和流量时间等程序可通过触摸屏自动控制，精度:±1%F.S,响应时间:≤4sec；

11、 真空系统采用一台旋片式真空泵或真空机组，真空度测量采用数字复合真空计也可选择皮拉尼真空计，测量仪表集成在温控面板上，方便易操作。