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双靶磁控溅射镀膜仪CK300
双靶磁控溅射镀膜仪配1台500w直流电源和1台全自动匹配射频电源，系统采用PLC+工控机+触摸屏全自动控制方式。
双靶磁控溅射镀膜仪CK300
磁控溅射镀膜仪CK450B
主要用途：用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。
磁控溅射镀膜仪CK450B
三靶磁控溅射镀膜仪CK300
设备用途：用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。
三靶磁控溅射镀膜仪CK300
小型磁控溅射镀膜仪
小型磁控溅射镀膜仪配备1台500W直流溅射电源和1台300W全自动匹配射频电源，PLC+触摸屏智能控制系统。
小型磁控溅射镀膜仪
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