产品用途

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

产品描述

l CVD管式炉系统由加热系统、真空获得系统和气路系统组成。

l 管式炉可选择不同的管径和恒温区的长度，炉管两端的不锈钢密封法兰也可选择高真空法兰和低真空法兰;

l 真空获得系统可根据试验要求选择不同的真空泵，旋片式机械真空泵真空度≤5Pa，分子泵真空机组真空度1x10^-4Pa;

l 气路供气系统可选择3路浮子手动和3路自动质量流量系统。

l 真空测量选用数字复合真空计或皮拉尼真空计。

l 温控器内置的RS485数字通信端口和USB适配器作为可选配置可连接PC，用于系统的远程控制和监视，还可以保存或导出测试结果。

l 产品符合欧盟CE标准。

产品特点

l 炉膛材料：温法真空抽滤成型制备的多晶无机氧化铝陶瓷纤维材料。

l 炉管材料：1200℃采用石英管/1700℃采用高纯刚玉管。

l 温控仪表：智能微电脑PID温控仪表，SCR/SSR控制，PID参数自整定功能；可编程序30个时段，程序升温、程序保温、程序降温。

l 升温速度：1-25℃/min自由调节。

l 炉体结构：炉膛温控一体式结构，炉膛开合式；双层外壳，空气循环隔热。

l 密封性能：炉管两端装有不锈钢金属法兰，配套亮温PTFE垫圈，可在真空下进行工作，真空度≤5Pa(旋片式真空泵)。

l 气氛性能：法兰两端有进气口和出气口，压力表装在金属法兰上，精密针型阀可调节进气和出气量，可通入氮气、氩气、氢气等气体。

l 设备保护：模块化控制，对工作过程中的超温、断偶会发出声光报警信号，并自动完成保护动作。

l 安全保护：在设备上装有空开断路器，如发生短路漏电情况时会自动弹开，能保护设备和提作人员的安全。

技术参数