产品描述

本设备采用模块化设计，结构紧凑且易于操作，专为大专院校、科研机构及小型研发实验室量身定制。设备核心功能为在真空环境或可控气氛条件下，通过磁控溅射技术实现对各类材料的薄膜沉积。可处理的材料包括：

· 金属材料（如铜、铝、钛、金、银等）；

· 半导体材料（如硅、氮化镓、氧化锌等）；

· 绝缘材料（如二氧化硅、氧化铝、氮化硅等）；

· 复合材料（如碳纳米管复合膜、金属 - 陶瓷复合膜等）。

设备适用于制备多种功能薄膜，例如：

· 电子信息领域：集成电路电极膜、传感器敏感膜、柔性电子器件导电膜；

· 光学领域：增透膜、高反射膜、滤光膜、光学防伪膜；

· 表面工程领域：耐磨涂层（如类金刚石膜）、耐腐蚀涂层、生物相容性涂层；

· 新能源领域：太阳能电池透明导电膜、固态电池电解质膜。

产品特点

1. 高效镀膜性能

· 磁控溅射技术优势：通过磁场约束电子运动，显著提高靶材原子离化率，沉积速率比传统蒸发镀膜提升3-5 倍，可在短时间内制备均匀、致密的薄膜（厚度可控至纳米级）。

· 多靶位协同工作：标配双靶位溅射室，可选配四靶位旋转靶架，支持多种材料顺序溅射或共溅射，满足多元合金膜、梯度膜、超晶格膜等复杂结构制备需求。

2. 智能工艺控制

· 全流程自动化：搭载PLC可编程控制系统，支持自定义镀膜工艺参数（如溅射功率、气体流量、沉积时间、基片转速等），可预设20 组以上工艺程序，一键启动后自动完成抽真空、气氛调节、溅射沉积、冷却等全流程。

· 精准温控系统：基片台配备电阻加热模块（最高温度可达600℃）和水冷温控模块，支持梯度升温/降温编程，可精确控制薄膜生长过程中的温度环境，优化薄膜结晶质量。

3. 灵活气氛环境

· 宽范围真空能力：采用分子泵 + 机械泵组合，极限真空度可达5×10⁻⁴Pa，满足高纯度薄膜制备需求；

· 多气氛动态调控：配备三路质量流量控制器（MFC），可实时精确控制氩气（Ar）、氮气（N₂）、氧气（O₂）、甲烷（CH₄）等气体的流量比例（精度±1%），支持反应溅射（如制备氧化物、氮化物薄膜）和气氛退火工艺。

4. 人性化设计与安全保障

· 可视化操作界面：配备彩色触摸屏，实时显示真空度、气体流量、温度、功率等关键参数，支持历史数据存储与导出（USB 接口）；

· 安全防护机制：设有真空联锁保护、过温报警、气体泄漏监测等功能，确保设备运行过程中人员和样品安全；

· 维护便捷性：溅射室采用快拆式结构，靶材更换、腔体清洁等操作可在10 分钟内完成，大幅降低停机维护时间。

5. 扩展性与兼容性

· 可选升级模块：

· 原位检测组件：可加装膜厚监控仪（石英晶体振荡法）、反射式激光测厚仪，实时监测薄膜生长厚度；

· 等离子体清洗功能：配备射频等离子体预处理模块，沉积前对基片表面进行刻蚀清洗，提升薄膜附着力；

· 样品旋转 / 倾斜装置：基片台支持转速 0-200 rpm 可调、倾斜角度 0-45° 可调，改善薄膜均匀性。

可选配件

典型应用场景

1. 纳米器件研发：在硅基片上溅射沉积钛 / 金（Ti/Au）电极，用于场效应晶体管（FET）制备；

2. 光学薄膜实验：通过磁控溅射制备二氧化硅（SiO₂）/ 氧化钛（TiO₂）多层增透膜，用于太阳能电池玻璃；

3. 生物医学研究：在钛合金表面溅射沉积羟基磷灰石（HA）涂层，提升植入体的生物相容性；

4. 柔性电子领域：在聚酰亚胺（PI）柔性基板上溅射银纳米线导电膜，用于可穿戴设备电极。

设备优势总结

· 一机多用：兼容单靶溅射、多靶共溅射、反应溅射等多种模式，满足从基础研究到工艺开发的全阶段需求；

· 精准可控：关键参数（真空度、温度、气体流量、功率）控制精度达行业领先水平，实验重复性误差＜5%；

· 低耗高效：采用节能型溅射电源，同等工艺下能耗比传统设备降低 20%，适合长时间连续运行。